本院覽號:02A-960706
創作人:胡宇光、 Jung Ho Je、Giorgio Margaritondo
智財權:獲證專利 美國專利 6,526,121
摘要:
本發明使用物質對高穿透性光源之自然折射率差異作為成像之機成像之機制改進成像之品質。使用此發明,以使用X光成像為例,許多對比極弱的材料例如生物醫學樣品及聚合物等,影像對比及品質皆可以得到大幅的提升。影像品質的提升也可以用於降低輻射劑量或者是提高取像速率。
可能的應用範圍:
其廣泛的應用範圍包括生物及醫學影像、半導體封裝及元件測試等可以觀察動態反應。
此項發明的優點:
- 對比極弱的物體例如生物醫學樣品及聚合物等,使用此發明後影像對比及品質皆可以得到大幅的提升。
- 影像品質的提升可以用於降低輻射劑量或者是提高取像速率,並得以觀動態反應。
智財技轉處聯絡人:
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