本院覽號:02T-1030511
創作人:薛韻馨、李固斌、陳志挺、郭白嘉、賴水金
智財權:know -how
摘要:
一種特殊的製程方式,於透光材料上鍍金屬薄膜, 利用雷射再加上離子束蝕刻方式, 製做出次微米結構圖型。此種方法可做出小至數百奈米等級之圖型。如再搭配常見之黃光微影製程,即可大量製作出次微米等級之材料元件。
可能的應用範圍:
需達次微米結構精度之元件,如光學元件,生醫晶片,或超音波元件等。
此項發明的優點:
一般如要製怍光學或生醫元件,若要達到次米等級,須利用極為昂貴之電子束曝光製程技術,且無法大量製造。本製程技術可用常見之黃光製程,做出一般無法達到之次微米精度,價格便宜且可大量製造相關元件。
智財技轉處聯絡人:
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