本院覽號:02A-1001209
創作人:胡恩德
智財權:TW I 457598、ZL 201210064915.X、US 9075245
摘要:
本發明使用特殊設計,除了便於攜帶更大幅降低熱膨脹問題,使X光顯微鏡進行奈米級量測時有極高之剛性與熱穩定性。
可能的應用範圍:
- 奈米級材料3D呈像
- 奈米級生物3D呈像
此項發明的優點:
傳統X光顯微鏡體積龐大極不便於攜帶,且其機構設計不足以符合奈米等級結構量測之需求。本發明使用特殊設計,除了便於攜帶更大幅降低熱膨脹問題,使X光顯微鏡進行奈米級量測時有極高之剛性與熱穩定性。
智財技轉處聯絡人:
對本技術有興趣,請於本處網頁廠商選項下(廠商需求與諮詢)網頁填寫資料,承辦人將跟您聯絡。
If you are interested in this technology, please fill in the information on the webpage under the manufacturer option (Apply for Technology Licensing, Material Transfer, or Sponsored Research) on the website of this office, and the undertaker will contact you