智財技轉處 Department of Intellectual Property and Technology Transfer 智財技轉處 Department of Intellectual Property and Technology Transfer

本院覽號：02T-990826

創作人：胡恩德

智財權：know-how

摘要：

本像散式量測系統可以光學輪廓儀模式量測樣品表面，此光學輪廓儀模式以雷射非接觸式掃描樣品表面，其速度可達掃描探針顯微鏡之千倍以上，可大幅節省掃描時間。

可能的應用範圍：

奈米級量測前以微米級方式預覽：掃描探針顯微術-以光學輪廓儀模式對樣品表面作粗掃。

此項發明的優點：

一般傳統掃描探針顯微術（SPM）使用光槓桿原理來偵測SPM探針的位移，無法使用雷射光直接掃描樣品表面。 以像散式量測系統（ADS）為核心的多模式量測光路除了可使用ADS偵測AFM探針的位移，還可使用ADS直接非接觸式量測樣品表面之形貌與光學特性。

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