本院覽號:02A-1020514
創作人:胡宇光、賴聖豐、王錚亮
智財權:中華民國專利獲證號:I 500451、美國專利:US9884306B2、中國專利ZL20140187553.2
摘要:
一種無對流效應之流動式反應器,用以提供一能量束照射反應腔體內之反應物流體。同時,本發明更提供一種無對流效應之流動式合成方法,用以連續式生成各種先進之奈米材料,例如奈米金粒子,並有效地控制其特定之材料性質。
可能的應用範圍:
主要為材料科學上的應用,特別奈米、光電、催化、環境以及生物相關領域所需的各種材料之合成與改質。
此項發明的優點:
- 在搭配一能量束使用之流動式程序下,可提供快速、高產量、潔淨以及低成本之目標產物的生產
- 基於無對流效應,具有均勻性質之材料可輕易地生產達成。
- 藉由簡單的改變反應流體之流速,可獲得不同特定性質之產物。
- 本技術可產出之粒子最小可達1.4奈米。
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