智財技轉處 Department of Intellectual Property and Technology Transfer 智財技轉處 Department of Intellectual Property and Technology Transfer

本院覽號：07A-1040804

創作人：孔慶昌、鄭佑辰、盧志軒

智財權：EP 3145036 B1、US 9,971,229 B2

摘要：

本發明可提供一種有系統地設計並製作多片型超連續光譜光源的方法，從已知的雷射能量、脈衝寬、波長便可經本技術所得到的資訊而取得製造此光源的必須參數,如雷射聚焦多少,材料的厚度,片數,及片與片之間的距離等。

可能的應用範圍：

1. 超快光學
2. 生醫及材料光學斷層掃描
3. 時間分析映象術
4. 大範圍顯微術

此項發明的優點：

1. 本研發可搭配多類雷射使用、耐用、簡單、製造方式可系統化
2. 現有技術生產過程複雜，需高級訓練人員，本技術製造過程不需特殊訓練員工，可降低成本
3. 市面已有的超連續光譜產生器產品只能供特定雷射及有限能量使用，容易受損故使用壽命短.

智財技轉處聯絡人：

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